标准号:YS/T 719-2009
标准名称:平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
发布日期:2009-12-04
实施日期:2010-06-01
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单(或合同)内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
批准发布部门:工业和信息化部行业分类无
全国有色金属标准化技术委员会
起草单位:利达光电股份有限公司
起草人:李智超、杨太礼 等
标准号:YS/T 719-2009
标准名称:平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
发布日期:2009-12-04
实施日期:2010-06-01
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单(或合同)内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
批准发布部门:工业和信息化部行业分类无
全国有色金属标准化技术委员会
起草单位:利达光电股份有限公司
起草人:李智超、杨太礼 等
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