GB/T 14847-2010 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法

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标准号:GB/T 14847-2010

标准名称:重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法

代替标准:GB/T 14847-1993

发布日期:2011-01-10

实施日期:2011-10-01

批准发布部门:国家标准化管理委员会

归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

起草单位:宁波立立电子股份有限公司、信息产业部专用材料质量监督检验中心

起草人:李慎重、何良恩、何秀坤、许峰、刘培东

本标准规定重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法。本标准适用于衬底在23℃电阻串小于0.02Ω?cm和外延层在23℃电阻率大于0.1Ω?cm且外延层厚度大于2μm的n型和p型硅外延层厚度的测量;在降低精度情况下,该方法原则上也适用于测试0.5μm~2μm之间的n型和p型外延层厚度。

GB/T 14847-2010 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法

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