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GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶

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标准号:GB/T 34649-2017

标准名称:磁控溅射用钌靶

发布日期:2017-09-29

实施日期:2018-04-01

批准发布部门:中国有色金属工业协会

归口单位:全国有色金属标准化技术委员会

起草单位:有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院

起草人:罗俊锋、丁照崇、万小勇、刘书芹、贺昕、滕海涛、李勇军、向磊、熊晓东、王庄、高岩

本标准规定了磁控溅射用钌靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。

本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钉靶(以下简称钌靶)。

GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶

GB/T 34649-2017(首页预览图)

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