T/ICMTIA 3-2020 集成电路用六氯乙硅烷

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标准号:T/ICMTIA 3-2020

标准名称:集成电路用六氯乙硅烷

发布日期:2020-02-24

实施日期:2020-04-24

本标准适用于以多晶硅副产六氯乙硅烷为原料提纯或化工合成的集成电路用六氯乙硅烷。集成电路用六氯乙硅烷主要用于半导体行业氧化硅膜、氮化硅膜的低温低压沉积工艺中,也是优良的硅氧烷前驱和光学纤维原料。

批发部门:中关村集成电路材料产业技术创新联盟

起草单位:洛阳中硅高科技有限公司、江苏南大光电材料股份有限公司、江苏雅克科技股份有限公司、中巨芯科技有限公司。

起草人:赵雄、万烨、严大洲、林俊元、崔日、李军、常欣、赵宇、张园园、郭树虎、张啸虎。

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