T/CNIA 0061-2020 硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

免费下载
本平台标准仅供学习参考,使用请以正式出版的标准版本为准。

标准号:T/CNIA 0061-2020

标准名称:硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

发布日期:2020-05-27

实施日期:2020-08-01

本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的方法。

本标准适用于硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钻、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的测定。各元素测定下限为0.01ng/g。

批发部门:中国有色金属工业协会

起草单位:洛阳中硅高科技有限公司、亚洲硅业(青海)股份有限公司、新特能源股份有限公司、新疆协鑫新能源材料科技有限公司

起草人:严大洲、万烨、赵雄、楚东旭、刘凤华、蔡延国、邱艳梅、赵娟龙

声明:资源收集自网络分享,所提供的电子版文档仅供学习参考,如侵犯您的权益,请联系我们处理。

不能下载?报告错误